公布日：2023.12.05
申请日：2023.09.25
分类号：C02F9/00(2023.01)I;C02F1/00(2023.01)I;B01D36/04(2006.01)I;B01D21/24(2006.01)I;B01F27/90(2022.01)I;C02F1/42(2023.01)I;C02F101/14(2006.01)N;C02F103
/34(2006.01)N
摘要
本发明涉及一种半导体生产加工用废水处理装置，包括底架、沉淀室、过滤室、滤网、清除组件、搅拌组件、出料组件，所述沉淀室位于底架上方，所述沉淀室的外部固定连接有出水管，所述过滤室位于底架上方，所述过滤室与沉淀室之间设有输送管，所述输送管的外部设有水泵，所述过滤室的顶部安装有进水管，所述滤网固定连接在过滤室内，所述清除组件设置在过滤室内，用于将滤网上的杂质吸走，所述搅拌组件设置在沉淀室中；本发明中，通过设置的过滤室，能够对含氟废水中的杂质进行过滤处理，通过沉淀室的设置，能够在含氟废水进入沉淀室内时，对废水中的氟进行处理，实现沉淀，使得处理后的水液达到排放标准。
权利要求书
1.一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，包括底架(4)；沉淀室(1)，所述沉淀室(1)位于底架(4)上方，所述沉淀室(1)的外部固定连接有出水管(5)；过滤室(2)，所述过滤室(2)位于底架(4)上方，所述过滤室(2)与沉淀室(1)之间设有输送管(23)，所述输送管(23)的外部设有水泵(22)，所述过滤室(2)的顶部安装有进水管(32)；滤网(29)，所述滤网(29)固定连接在过滤室(2)内；清除组件，所述清除组件设置在过滤室(2)内，用于将滤网(29)上的杂质吸走；搅拌组件，所述搅拌组件设置在沉淀室(1)中，用于对废水和处理药剂进行搅拌处理；出料组件，所述出料组件设置在沉淀室(1)的底部，用于将沉淀物排出。
2.根据权利要求1所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述过滤室(2)的顶部固定连接有支撑架(24)，所述清除组件包括滑动设置在支撑架(24)外部的滑动框(26)以及设置在滑动框(26)底部的吸管(28)，所述支撑架(24)上固定连接有电动推杆(25)，所述电动推杆(25)的活塞杆与滑动框(26)固定连接，所述吸管(28)的外部固定连接有负压管(31)，所述负压管(31)的一端与设置在底架(4)上的吸尘风机的输入端固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述支撑架(24)的底部固定连接有电动滑轨(27)，所述吸管(28)与电动滑轨(27)中的滑块固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述搅拌组件包括固定连接在沉淀室(1)顶部的电机(6)、固定连接在电机(6)驱动轴上的转杆(7)以及固定连接在转杆(7)外部的多组搅拌轴(8)。
5.根据权利要求4所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述沉淀室(1)的底部为开口结构，所述出料组件包括转动设置在沉淀室(1)底部的阻挡板(19)以及铰接在底架(4)上的第一液压缸(9)，所述第一液压缸(9)的活塞杆与阻挡板(19)铰接，所述沉淀室(1)的外部固定连接有固定架(12)，所述固定架(12)上转动连接有转柱(13)，所述阻挡板(19)与转柱(13)固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述底架(4)上还设有箱体(21)，所述箱体(21)内固定连接有第二液压缸(14)，所述第二液压缸(14)的活塞杆的外部固定连接有齿条(16)，所述箱体(21)内还转动连接有齿轮(15)，所述齿轮(15)的外部固定连接有转轴(17)，所述转轴(17)的一端延伸至箱体(21)的外部后固定连接有支撑块(18)，所述箱体(21)的底部还固定连接有接近传感器(20)，所述箱体(21)的外部设有控制器(30)，所述第一液压缸(9)、第二液压缸(14)、接近传感器(20)以及电动推杆(25)均与控制器(30)电性耦接。
7.根据权利要求6所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述沉淀室(1)以及过滤室(2)均由多组回字框(3)叠加固定组成。
8.根据权利要求7所述的一种半导体生产加工用废水处理装置，其特征在于，所述沉淀室(1)以及过滤室(2)的外部均安装有楼梯(11)，所述沉淀室(1)的底部设有收集框(10)。
发明内容
针对现有专利中都是对废水进行过程处理，而没有对废水中的氟进行处理，所以过滤后还是不符合排放标准的技术问题，本发明提供一种半导体生产加工用废水处理装置。
本发明所采用的技术方案是：一种半导体生产加工用废水处理装置，包括底架、沉淀室、过滤室、滤网、清除组件、搅拌组件、出料组件，所述沉淀室位于底架上方，所述沉淀室的外部固定连接有出水管，所述过滤室位于底架上方，所述过滤室与沉淀室之间设有输送管，所述输送管的外部设有水泵，所述过滤室的顶部安装有进水管，所述滤网固定连接在过滤室内，所述清除组件设置在过滤室内，用于将滤网上的杂质吸走，所述搅拌组件设置在沉淀室中，用于对废水和处理药剂进行搅拌处理，所述出料组件设置在沉淀室的底部，用于将沉淀物排出。
通过采用上述技术方案，能够对含氟废水进行处理，通过设置的过滤室，能够对含氟废水中的杂质进行过滤处理，通过沉淀室的设置，能够在含氟废水进入沉淀室内时，对废水中的氟进行处理，实现沉淀，使得处理后的水液达到排放标准。
进一步的是，所述过滤室的顶部固定连接有支撑架，所述清除组件包括滑动设置在支撑架外部的滑动框以及设置在滑动框底部的吸管，所述支撑架上固定连接有电动推杆，所述电动推杆的活塞杆与滑动框固定连接，所述吸管的外部固定连接有负压管，所述负压管的一端与设置在底架上的吸尘风机的输入端固定连接。
通过采用上述技术方案，能够通过吸管将滤网上的杂质进行吸收去除，避免杂质的堆积对滤网造成堵塞。
进一步的是，所述支撑架的底部固定连接有电动滑轨，所述吸管与电动滑轨中的滑块固定连接。
通过采用上述技术方案，能够通过电动滑轨控制吸管进行前后移动，实现吸管对滤网的全方位吸附处理。
进一步的是，所述搅拌组件包括固定连接在沉淀室顶部的电机、固定连接在电机驱动轴上的转杆以及固定连接在转杆外部的多组搅拌轴。
通过采用上述技术方案，能够通过电机带动转杆和搅拌轴的转动，实现对沉淀室中的废水进行搅拌使其与处理剂能够充分反应，从而实现快速沉淀，提升处理效率。
进一步的是，所述沉淀室的底部为开口结构，所述出料组件包括转动设置在沉淀室底部的阻挡板以及铰接在底架上的第一液压缸，所述第一液压缸的活塞杆与阻挡板铰接，所述沉淀室的外部固定连接有固定架，所述固定架上转动连接有转柱，所述阻挡板与转柱固定连接。
通过采用上述技术方案，能够在阻挡板打开时，然后在重力的作用下，所以沉淀物能够掉落在收集框内实现沉淀物的自动排放。
进一步的是，所述底架上还设有箱体，所述箱体内固定连接有第二液压缸，所述第二液压缸的活塞杆的外部固定连接有齿条，所述箱体内还转动连接有齿轮，所述齿轮的外部固定连接有转轴，所述转轴的一端延伸至箱体的外部后固定连接有支撑块，所述箱体的底部还固定连接有接近传感器，所述箱体的外部设有控制器，所述第一液压缸、第二液压缸、接近传感器以及电动推杆均与控制器电性耦接。
通过采用上述技术方案，能够在第二液压缸带动齿条向下运动，且运动接近箱体的内底部时，所以能够被接近传感器检测到，然后接近传感器将信号发送给控制器后，控制器启动第一液压缸运动；第一液压缸带动阻挡板翻转打开，从而能够将沉淀室的底部开口打开，然后在重力的作用下，所以沉淀物能够掉落在收集框内，实现联动控制。
进一步的是，所述沉淀室以及过滤室均由多组回字框叠加固定组成。
通过采用上述技术方案，能够方便安装。
进一步的是，所述沉淀室以及过滤室的外部均安装有楼梯，所述沉淀室的底部设有收集框。
通过采用上述技术方案，能够方便工人上去修护。
本发明的有益效果是：
1.与现有技术相比，本发明中，通过设置的过滤室，能够对含氟废水中的杂质进行过滤处理，通过沉淀室的设置，能够在含氟废水进入沉淀室内时，对废水中的氟进行处理，实现沉淀，使得处理后的水液达到排放标准。
2.与现有技术相比，本发明中，通过设置的搅拌组件，能够对沉淀室中的废水进行搅拌使其与处理剂能够充分反应，从而实现快速沉淀，提升处理效率。
3.与现有技术相比，本发明中，通过出料组件的设置，能够在沉淀室对废水处理后，对沉淀物进行实现快速排出。
（发明人：刘永华;寿浙琼;张羽丰）
